Новое вакуумно-технологическое оборудование для производства ГИС и силовой электроники
Инжиниринговый центр АО «Мосэлектронпроект» продолжает цикл семинаров по проблемам организации и производства ЭКБ с высокими технико-экономическими показателями.
Приглашаем специалистов посетить семинар «Новое вакуумно-технологическое оборудование для производства ГИС и силовой электроники».
Мероприятие состоится 07 апреля 2016г. в 09-30.
Адрес: ул. Космонавта Волкова, 12. 1 этаж, конференц-зал.
Регистрация осуществляется через сайт, при запросе на электронную почту baskakova_tv@mosep.ru или по телефону +7 (495) 225-15-22 доб. 18-02.
После подтверждения регистрации – вход свободный.
Программа:
|
9.30 — 10.00 |
Сбор участников |
|
10.0 – 10.05 |
1. Вступительное слово заместителя генерального директора по развитию АО «Мосэлектронпроект» В.Я. Бартенева |
|
|
2. Установки для напыления и травления слоев в технологии ГИС (микросборок). |
|
10.05— 10.20 вопросы 5 |
2.1. Установки серии Ника-2012 как современная замена установок колпакового типа (УВН-71, УВМ-2М2 и т. п. |
|
10.25 — 10.45 вопросы 5 |
2.2. Установки серии Ника-2013 Как замена установок типа (УВН-73-75) под все виды покрытий. |
|
10.50 — 11.10 |
Перерыв 15 минут |
|
|
3. Технологии, реализуемые на предлагаемых установках |
|
11.25 — 11.45 вопросы 5 |
3.1. Традиционные методы напыления: термическое испарение, электронно-лучевое испарение, испарение с электронным нагревом |
|
11.50 — 12.05 вопросы 5 |
3.2. Напыление резистивных слоев всех типов магнетронным методом, в том числе с применением реактивных методов нанесения высокоомных слоев. |
|
12.10 — 12.20 вопросы 5 |
3.3. Напыление проводящих покрытий при помощи магнетронных методов нанесения, включая методы сверхскоростного нанесения меди магнетроном, работающим в парах мишени (МПМ). Особенности процессов и производительность метода. |
|
12.25 — 13.30 |
Обед |
|
|
4. Технологические устройства, вновь разработанные ЛВТ для обеспечения новых установок. |
|
13.30 — 13.45 вопросы 5 |
4.1. Ионные источники для очистки, ассистирования и травления. |
|
13.50 — 14.05 вопросы 5 |
4.2. Магнетроны для напыления РС. |
|
14.10 — 14.20 вопросы 5 |
4.3. Магнетроны для напыления тонких слоев металла |
|
14.25 — 14.40 вопросы 5 |
4.4. Магнетроны для напыления толстой меди со скоростями порядка 1 мкм/мин. |
|
14.45 — 15.00 вопросы 5 |
4.5. Новые технологические устройства, не применявшиеся ранее в технологиях ГИС. (РПГ). |
|
15.05 — 15.10 вопросы 5 |
4.6. Блоки питания термических испарителей с цифровым управлением. |
|
15.15 — 15.30 вопросы 5 |
4.7. Вакуумметры цифровые низковакуумные и высоковакуумные. |
|
15.35 — 15.45 |
Подведение итогов |
